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光學量測技術保留了光學量測技術中非接觸、快速顯像等特性，又提供了相當高的空間解析率，
在學術界與產業界都有很好的應用價值。再加上它的架設與傳統光學顯微鏡完全相容，對不熟悉光學系統的人士而言，操作與維護也不困難
在納米光學中，一個很重要且基本的q為如何去觀察納米區域的光學特性，
我們知道光學顯微技術受限于繞射限制，根據 Rayleigh Criterion，它的極限為 0.61λ/N.a. 其中 N.a.為數值口徑，λ為波長，在空氣中我們所能看到的極限約為半個波長，
我們知道光學顯微技術受限于繞射限制，根據 Rayleigh Criterion，它的極限為 0.61λ/N.a. 其中 N.a.為數值口徑，λ為波長，在空氣中我們所能看到的極限約為半個波長，
利用納米口徑產生僅存在于近場的光學衰減波(evanescent wave有別于以透鏡為主的遠場光學，
利用納米口徑產生僅存在于近場的光學衰減波(evanescent wave)，以其所特有的
高橫向波向量對納米結構進行掃瞄，達到突破繞射限制的光學解析度。此類近場光學顯微術的核心為一能產生奈
米光點的探針，我們發展一種終端蝕刻技術可將一般光纖蝕刻成表面光滑具有數十納米口徑的探針。
目前我們結合此光纖探針與原子力顯微技術，研究光在光子晶體結構上的傳播現象與應用
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