房山顯微熒光光譜技術(shù)在顯微光譜分析上的特點
作者: 發(fā)布時間:2022-07-02 20:55:04點擊:1854
信息摘要:
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近幾年來在材料科學及元件應用的研究中,發(fā)現(xiàn)到當材料尺寸下降后,
其物理特性與同一材料在巨觀尺寸下特性有極大差異,例如量子侷限效應、表面能態(tài)效應等等。
由于這些微觀物理特性潛藏許多新的應用,世界各先進為了在這場新世代的應用科學中搶得先機,
無不積極投入大量的研發(fā)經(jīng)費與人力。當材料與元件尺寸逐漸縮小時,為了分析材料及元件的物理特性,
具有高空間解析度的光譜檢測分析技術(shù)將扮演一重要角色。
介紹兩種顯微熒光光譜技術(shù),
分別為微光激熒光光譜分析技術(shù)與陰極熒光光譜分析技術(shù)。
我們將從實驗原理以及該技術(shù)應用于半導體發(fā)光材料的實驗結(jié)果,
說明這兩種技術(shù)在顯微光譜分析上的特點。
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