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金屬鍍膜測量顯微鏡-鍍膜玻璃硬度測試硬度計
應用于大尺寸化制程技術(shù)之液晶平面顯示器驅(qū)動電路層電極與導線材料
用的鋁合金靶材需具備導電率高，與SiO2或玻璃等材料之附著性佳，耐電致遷移能力佳，
可抑制空洞（void）與濺鍍凸起小丘（hillock）形成，并易于鍍膜化和價格便宜等要求；
因此結(jié)合靶材之真空熔煉制程與合金材料系統(tǒng)之開發(fā)設計，
以開發(fā)具有高純度、尺寸大型化、一體成型與可回收性等要求之鑄鍛型低價格
TFT-LCD電路層材料用的鋁合金濺鍍靶材制程與合金系統(tǒng)
探討不同鈧元素含量添加對二元鋁-鈧合金濺鍍靶材與添加第三元素銣對鋁
-1wt%鈧合金濺鍍靶材之顯微組織，析出相組成成份與相變態(tài)行為及其濺鍍薄膜之電性質(zhì)、
熱性質(zhì)、光學性質(zhì)與薄膜表面狀態(tài)的影響。
進一步與現(xiàn)有商用之鋁-銣合金靶材系統(tǒng)作一比較。研究結(jié)果顯示微量合金元素鈧
對于Al-Sc合金靶材而言為一有效之晶粒細化劑與調(diào)質(zhì)劑，
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