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將樣品（D）使用電子光束蒸鍍系統(tǒng)（E-Gun Evaporator , E-Gun）在樣品上鍍一層厚 150 奈米（nanometer，nm）的鋁。
接著在鍍好的鋁上，旋轉(zhuǎn)涂布（spin coating）一層 PMMA 光阻，再用加熱板烘烤
接著在鍍好的鋁上，旋轉(zhuǎn)涂布（spin coating）一層 PMMA 光阻，再用加熱板烘烤
一個(gè)小時(shí)。
我們采用電子束微影設(shè)備（E-Beam Writer）來(lái)進(jìn)行曝光，以達(dá)到次微米級(jí)的微影條件，因?yàn)殡娮邮牟ㄩL(zhǎng)遠(yuǎn)比一般所使用的深
我們采用電子束微影設(shè)備（E-Beam Writer）來(lái)進(jìn)行曝光，以達(dá)到次微米級(jí)的微影條件，因?yàn)殡娮邮牟ㄩL(zhǎng)遠(yuǎn)比一般所使用的深
紫外光短很多，隨著電壓增加，電子束波長(zhǎng)亦會(huì)變得更短，
所以其解析能力可至次微米級(jí)。將設(shè)計(jì)好的圖案曝寫(xiě)在樣品上，再使用顯影劑
所以其解析能力可至次微米級(jí)。將設(shè)計(jì)好的圖案曝寫(xiě)在樣品上，再使用顯影劑
（MIBK）顯影。完成顯影后，我們使用氫氟酸（HF）來(lái)對(duì)鋁蝕刻，達(dá)成圖案轉(zhuǎn)移，
最后再用紫外光臭氧清洗機(jī)（UV-Ozone Asher）除去光阻，如此就完成我們的加工制程
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