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工業(yè)微觀光學(xué)晶體觀察分析測量顯微鏡
高品質(zhì)單晶的生長及摻雜控制乃至于制成的更佳化，
對于非線性光學(xué)晶體在工業(yè)上應(yīng)用扮有極為重要的角色。
然而在自然融熔態(tài)生長的晶體，或多或少都會偏離化學(xué)計量組成，
形成對位缺陷。
此對位缺陷對晶體的性質(zhì)，尤其在元件的加工及應(yīng)用上，有極大的不良影響。
此外，在摻雜的應(yīng)用上，更因為摻雜離子在固體及液體中的溶解度不
同，造成偏析及晶體的不均勻性。因此本計畫將使用可視化的水平區(qū)
熔系統(tǒng)，以等計量比鈮酸鋰單晶作為生長對象，來進行摻雜均勻的等
計量比晶體生長，以期望能得到低耗能且摻雜均勻的等計量比單晶體
生長技術(shù)，并輔以電腦模擬計算，發(fā)展雙層的系統(tǒng)熱流模式，
并分析更佳化晶體生長程序，以期開發(fā)高效率低耗能的
等計量且均勻性高的單晶技術(shù)。
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