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掃描電子顯微鏡放大倍率可達30萬倍
場效發射式掃描電子顯微鏡
觀察材料表面縱深形貌，放大倍率可達30萬倍。
應用領域：
包含納米材料、半導體、封裝、印刷電路板、BGA、光碟片、LED等產業之表面、故障分析等。
特別注意事項：
樣品或試片準備需知：
樣品材質為固體、尺寸3mm～50mm見方或圓形或粉體、厚度<2cm。
工作環境要求： 有空調環境、隔磁、防震。
多功能場發射掃描式電子顯微鏡附加了能量分散X光譜儀(EDS)、陰極發光分析儀(CL)及電子背向散射繞射儀(EBSD)，
主要應用于固態、納米材料的表面形貌及微結構影像觀察，
并同時進行微區的化學組成、發光特性及結晶方位等分析。EDS用于成份分析，包括定性、半定量、
特定區域化學元素之mapping及line scan等。CL用于發光光譜量測、CL影像分析、微量雜質、缺陷分析等。
用于多晶材料之晶體結構、取向、微區織構、晶粒、晶界性質分析等。
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