通州二手顯微鏡市場光刻:精密儀器的模型
作者: 發(fā)布時(shí)間:2022-07-02 17:37:46點(diǎn)擊:2077
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用戶1914683563 2018—05-19 18:22
面對美國4月份對中興通訊芯片的禁運(yùn),我們感到被別人牽著很痛苦,而生產(chǎn)高性能芯片的關(guān)鍵設(shè)備是光刻機(jī)。今天我們來談?wù)劰饪虣C(jī)。
掩模對準(zhǔn)器(Mask Aligner),又稱掩模對準(zhǔn)光刻、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等,其中掩模對準(zhǔn)光刻是比較常用的光刻,本文主要收集數(shù)據(jù)和實(shí)例來掩模對準(zhǔn)光刻。
高端投影光刻機(jī)可分為兩類:步進(jìn)投影光刻和掃描投影光刻。分辨率通常介于十納米和幾微米之間。高端光刻機(jī)被稱為世界上更先進(jìn)的儀器。高端光刻機(jī)是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)的結(jié)晶。制造起來很困難。目前,世界上只有少數(shù)幾家公司能生產(chǎn)。
國外光刻品牌主要包括荷蘭ASML、日本尼康和日本佳能,國內(nèi)光刻機(jī)主要為擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的上海微電子設(shè)備有限公司的SMEE。目前,公司的光刻機(jī)已初步形成一系列產(chǎn)品,并開始在國內(nèi)外銷售。
制造和發(fā)展的低端光刻機(jī)是接近和接觸式光刻機(jī),其分辨率通常超過幾微米,主要是德國、美國和中國品牌。
光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)是尺寸范圍、分辨率、對準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等硬指標(biāo)。
1)分辨率是光刻工藝所能達(dá)到的最的線精度。光刻的分辨率主要受光源的衍射極限的限制,也就是說,我們稱之為阿貝極限(光學(xué)顯微鏡的分辨率極限約為波長的一半)。一般來說,光刻機(jī)的分辨率受光學(xué)系統(tǒng)、光致抗蝕劑和光刻工藝的限制。
一般光刻工藝要經(jīng)過晶片表面的清洗、干燥、涂布、旋涂光致抗蝕劑、軟干燥、對準(zhǔn)曝光、干燥、顯影、硬干燥、蝕刻等工序。用光刻膠將掩模上的圖案或電路結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到硅片上,然后通過光學(xué)蝕刻在硅片上蝕刻內(nèi)容。
曝光系統(tǒng)是光刻機(jī)的核心部件之一。為了減小衍射極限,采用大量的紫外光、深紫外光和極紫外光作為光源,如水銀燈、準(zhǔn)分子激光器等,曝光系統(tǒng)主要實(shí)現(xiàn)平滑衍射效應(yīng)、均勻照明、成膜等功能。閃爍和冷光處理、強(qiáng)光照明和光強(qiáng)調(diào)部分。曝光模式分為接觸接近、投影和直接寫入。但一般來說,在曝光系統(tǒng)中使用的光源必須滿足以下要求:
波長越短,邊緣越銳利,用于刻蝕的特征尺寸越小,刻蝕工藝對精度的控制越好。
曝光區(qū)域中光的均勻性或平行性越高,硅片上刻蝕痕跡的深度和寬度越一致,刻蝕精度越高,越容易控制。
對準(zhǔn)系統(tǒng)是光刻機(jī)的另一核心部件。制造高精度對準(zhǔn)系統(tǒng)需要近乎完美的精密機(jī)械加工,這也是全球光刻機(jī)的技術(shù)難點(diǎn)。許多美國和德國品牌的光刻機(jī)都有專門的專利機(jī)械工藝設(shè)計(jì),如可以有效地避免軸承機(jī)械摩擦,所有空氣動力軸承的專利設(shè)計(jì)技術(shù)都帶有擦除誤差。
當(dāng)然,顯微光學(xué)系統(tǒng)和CCD探測器是光刻機(jī)對準(zhǔn)系統(tǒng)的另一個(gè)難題,根據(jù)操作的簡單和精度,光刻機(jī)的對準(zhǔn)模式可分為手動、半自動和自動三種。
為縮短我國與國際先進(jìn)光刻技術(shù)的差距,打破國際高端光刻機(jī)市場的壟斷和制約,在02s規(guī)劃中確定了發(fā)展高端光刻機(jī)的戰(zhàn)略目標(biāo)。我國特殊項(xiàng)目,32-22nm設(shè)備技術(shù)前瞻性研究的重點(diǎn)任務(wù)包括EUV光刻的關(guān)鍵技術(shù)。長春光機(jī)研究所、成都光電子研究所、上海光機(jī)研究所、微電子研究所、北京理工大學(xué)、哈爾濱理工大學(xué)、華中科技大學(xué)等研究所。科研院所共同解決了關(guān)鍵問題。
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