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熔煉鑄造晶粒尺寸-鑄造合金及其熔煉實驗顯微鏡
添加微量鈧之鋁合金靶其在真空熔煉鑄造后其靶材晶粒尺寸均勻，
大小可控制在50μm以下，且鑄造后之顯微組織為一具微細Al3Sc析出相均勻分佈
之熱穩定性佳與清淨度高之等軸晶結構。而在濺鍍薄膜之性質研究方面，
添加鈧之Al-Sc合金系統薄膜其對于濺鍍凸起小丘（hillock）之抑制效果明顯優于
商用之Al-Nd合金系統。另外在薄膜之電性質研究結果上顯示添加鈧之Al-Sc合金系統薄膜，
其再經退火熱處理后電阻系數皆可降低至4μΩcm以下，已符合平面顯示器中大尺寸
之電阻系數要求值（<10μΩcm）。但此合金薄膜之電阻系數值會隨Sc含量增加而上昇，
當Sc含量添加超過1.5wt%時，合金薄膜之電阻系數有明顯較大幅度增加之趨勢。
另外在光學反射率之量測結果顯示當Sc含量添加≦1.5wt%時，
退火熱處理前后Al-Sc合金薄膜之反射率在可見光波段之范圍內其反射率整體
平均皆可達83％以上，由此證明添加微量鈧之Al-Sc合金靶材適合應用于鍍制
光電平面顯示器驅動電路層材料或光電元件用高反射率金屬膜層。
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