通州光學顯微鏡以1000x觀察金屬的蝕刻后表面形態(tài)
作者: 發(fā)布時間:2022-07-02 20:45:18點擊:2713
信息摘要:
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光學顯微鏡以1000x觀察金屬的蝕刻后表面形態(tài)
不同濃度制程之表面形態(tài)比較
利用濃度改變來觀察蝕刻后金字塔的表面形態(tài),制定參數(shù)如下:
1.蝕刻液(KOH)之濃度:0.5、1、2%
2.反應(yīng)時間:10 分鐘
3.反應(yīng)溫度:70℃
4.間隙距離:未控制(矽晶片貼于金屬網(wǎng)上)
5.網(wǎng)目孔洞大?。?mm
在實驗中,我們最初對蝕刻液濃度做討論,
利用光學顯微鏡以1000x觀察其表面形態(tài),
當KOH 濃度為1%時為實驗中之更佳參數(shù),而濃度降為0.5%時,
我們看到雖有金字塔結(jié)構(gòu)產(chǎn)生但反應(yīng)速率降低,又將濃度提高為2%時,
幾乎沒有結(jié)構(gòu)的生成,如果再提高濃度則為拋光作用。所以在往后的實驗中我們將KOH蝕刻液的濃度固定為1%。
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