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電子掃描顯微鏡(SEM)用來量測納米級(jí)表面特征尺寸
一般而言，在量測奈米級(jí)表面特征尺寸主要之量測設(shè)備為電子掃描顯微鏡(SEM)、穿透式電子顯微鏡(TEM)、原子力顯微鏡(AFM)等儀器，
這些儀器可量測數(shù)十微米至幾個(gè)奈米等級(jí)表面特征，解析度都可達(dá)0.1 nm。但使用TEM時(shí)，TEM試片制作依照傳統(tǒng)方法，
經(jīng)切割、研磨、離子薄化、鍍碳等過程，準(zhǔn)備工作是相當(dāng)費(fèi)時(shí)費(fèi)工，且屬于破壞性檢測。掃描式電子顯微鏡(CD- Scanning Electron microscopy, CD-SEM)
尚可量測CD，但受制于SEM使用高壓、高速電子，
其量測過程會(huì)衝擊待測物而造成損壞及高溫?zé)龤В蛘咴斐晒庾栊再|(zhì)改變，且只能量測到2D，
對于SWA無法進(jìn)行檢測。另外發(fā)展以光學(xué)散射量測CD技術(shù)，
但只適用于週期性光柵之線寬量測，無法量測單一條線寬，有鑑于此，
利用僅約奈牛頓力之原子力顯微鏡發(fā)展關(guān)鍵尺寸量測之技術(shù)，且AFM在線寬量測追溯系統(tǒng)也已被提出。
客服1